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F20膜厚測量系統(tǒng)的特點
這是一種行業(yè)標準、低成本、多功能桌面薄膜厚度測量系統(tǒng),在全球安裝了 5,000 多個裝置。它可用于廣泛的應用,從研究和開發(fā)到制造現(xiàn)場的在線測量。
F20基于光學干涉法,可以在約1秒內(nèi)輕松測量透明或半透明薄膜的厚度、折射率和消光系數(shù)。
它還支持多點在線測量,并支持RS-232C和TCP/IP等外部通信,因此也可以從PLC或主機進行控制。
兼容多種薄膜厚度(1nm 至 250μm)
兼容寬波長范圍(190nm至1700nm)
強大的膜厚分析
光學常數(shù)分析(折射率/消光系數(shù))
緊湊型外殼
支持在線測量
平板 | 單元間隙、聚酰亞胺、ITO、AR膜、 各種光學膜等 |
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半導體 | 抗蝕劑、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等 |
光學鍍膜 | 防反射膜、硬涂層等 |
薄膜太陽能電池 | CdTe、CIGS、非晶硅等 |
砷化鋁鎵(AlGaAs)、磷化鎵(GaP)等 | |
醫(yī)療保健 | 鈍化、藥物涂層等 |
模型 | F20-UV | F20 | F20-HR | F20-近紅外 | F20-EXR | F20-UVX |
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測量波長范圍 | 190 – 1100nm | 380 – 1050納米 | 440 – 1000nm | 950 – 1700nm | 380 – 1700nm | 190 – 1700nm |
膜厚測量范圍 | 1nm – 40μm | 15納米 – 70微米 | 50納米 – 180微米 | 100nm – 250μm | 15納米 – 250微米 | 1nm – 250μm |
準確性* | 膜厚的±0.2% | 膜厚的±0.4% | 膜厚的±0.2% | |||
±1nm | ±2nm | ±3nm | ±2nm | ±1nm | ||
測量光斑直徑 | 1.5mm 或 0.5mm( 最小 0.1mm)可供選擇(可選) | |||||
光源 | 氘· 鹵素 | 鹵素 | 氘· 鹵素 |
*測量 Filmetrics 提供的 Si 基板上的 SiO2 薄膜時設(shè)備本身的精度。
可以測量從半導體等精密加工品到玻璃、汽車零部件等各種樣品的膜厚。
多晶硅薄膜的膜厚和折射率分析
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